[实用新型]一种化学机械抛光用保持环有效

专利信息
申请号: 202120070274.3 申请日: 2021-01-12
公开(公告)号: CN215847582U 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;侯娟华 申请(专利权)人: 宁波江丰电子材料股份有限公司
主分类号: B24B37/32 分类号: B24B37/32
代理公司: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 代理人: 王岩
地址: 315400 浙江省宁波市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型提供了一种化学机械抛光用保持环,所述化学机械抛光用保持环包括第一环体和第二环体;所述第一环体和第二环体通过粘结剂粘结;所述第一环体上设有凹槽,所述凹槽上设有第一侧面粘结面和第一阶梯水平粘结面;所述第二环体上设有环形凸台,所述环形凸台的底部外径小于顶部外径;所述环形凸台上设有第二侧面粘结面和第二阶梯水平粘结面;所述第二阶梯水平粘结面上设有燕尾槽;所述凹槽的直径与所述环形凸台的顶部外径相同;所述环形凸台插入到所述凹槽内。本实用新型通过改进两种环体之间的粘结结构,增强了两者之间的粘结强度,提升了保持环的品质;所述粘结结构的设计无需复杂操作,结构简单,工作量小,有利于工业化应用。
搜索关键词: 一种 化学 机械抛光 保持
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