[实用新型]一种化学机械抛光用保持环有效
| 申请号： | 202120070274.3 | 申请日： | 2021-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN215847582U | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;侯娟华 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/32 | 分类号： | B24B37/32 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 王岩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 保持 | ||
1.一种化学机械抛光用保持环，其特征在于，所述化学机械抛光用保持环包括第一环体和第二环体；所述第一环体和第二环体通过粘结剂粘结；
所述第一环体的粘结面一侧设有以圆心为中心的凹槽；所述凹槽上设有第一侧面粘结面和第一阶梯水平粘结面；
所述第二环体的粘结面一侧设有以圆心为中心的环形凸台；所述环形凸台的底部外径小于顶部外径；所述环形凸台上设有第二侧面粘结面和第二阶梯水平粘结面；所述第二阶梯水平粘结面上设有燕尾槽；
所述凹槽的直径与所述环形凸台的顶部外径相同；所述环形凸台插入到所述凹槽内；
所述第一侧面粘结面以及第一阶梯水平粘结面上设有连通凹槽；
所述连通凹槽的深度为0.1～0.2mm；
存在所述连通凹槽时，所述凹槽的深度与所述环形凸台的高度相同。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光用保持环，其特征在于，所述第一环体的材质为塑料；所述塑料包括PPS材料或PEEK材料。
3.根据权利要求1所述的化学机械抛光用保持环，其特征在于，所述第二环体的材质为不锈钢。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光用保持环，其特征在于，所述第一环体与研磨垫接触的一侧沿直径方向上在环体的两端分别设有椭圆柱形凹槽和圆柱形凹槽。
5.根据权利要求1所述的化学机械抛光用保持环，其特征在于，所述第一环体的粘结面一侧外缘为斜面；
所述斜面的底部外径小于所述第一环体的最大直径。
6.根据权利要求1所述的化学机械抛光用保持环，其特征在于，所述凹槽的深度低于所述环形凸台的高度；
所述凹槽的深度比所述环形凸台的高度低0.1～0.2mm。
7.根据权利要求1所述的化学机械抛光用保持环，其特征在于，所述燕尾槽关于圆心对称设置，且沿直径方向上至少为4个。
8.根据权利要求1所述的化学机械抛光用保持环，其特征在于，所述燕尾槽的深度为0.5～0.6mm。
9.根据权利要求1所述的化学机械抛光用保持环，其特征在于，所述燕尾槽的截面呈倒梯形；
所述倒梯形的顶边宽度为3.5～4mm；所述倒梯形的底边宽度比所述顶边宽度小0.2mm。
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