[发明专利]一种用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备在审
| 申请号： | 202111679530.X | 申请日： | 2021-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN114481312A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 何良俊;杨将;张海 | 申请（专利权）人： | 武汉劲野科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B29/40;C23C16/455 |
| 代理公司： | 武汉华强专利代理事务所(普通合伙) 42237 | 代理人： | 康晨 |
| 地址： | 430000 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于CVD设备的多面漏斗型进气装置，包括多面管体以及固定安装在所述多面管体上的多个进气管，每个所述进气管上均固定安装有呈竖直设置的分隔板，所述进气管上固定连接有第一通气管以及第二通气管，所述分隔板两侧均固定安装有支撑架，每个所述支撑架均和所述进气管内壁固定连接，所述进气管上开设有用于安装所述分隔板的安装腔；每个所述支撑架上均固定安装有伸缩板，所述伸缩板包括第一滑动板以及第二滑动板。本发明可以根据实际的需求调节进气口的大小，从而控制单位时间内气体的通入量，更加有利于气体之间的反应，对材料生长的速度、结晶质量以及原材料利用率均有较好的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 cvd 设备 多面 漏斗 型进气 装置 | ||
【主权项】：
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