[发明专利]一种用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备

说明书

本发明公开了一种用于CVD设备的多面漏斗型进气装置，包括多面管体以及固定安装在所述多面管体上的多个进气管，每个所述进气管上均固定安装有呈竖直设置的分隔板，所述进气管上固定连接有第一通气管以及第二通气管，所述分隔板两侧均固定安装有支撑架，每个所述支撑架均和所述进气管内壁固定连接，所述进气管上开设有用于安装所述分隔板的安装腔；每个所述支撑架上均固定安装有伸缩板，所述伸缩板包括第一滑动板以及第二滑动板。本发明可以根据实际的需求调节进气口的大小，从而控制单位时间内气体的通入量，更加有利于气体之间的反应，对材料生长的速度、结晶质量以及原材料利用率均有较好的影响。

技术领域

本发明涉及CVD设备技术领域，尤其涉及一种用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备。

背景技术

CVD设备外延生长晶体材料时，各种源材料及运载气体通过不同管道进入反应室，其中，源材料为V族源气体和III族源气体，运载气体为氮气、氢气及惰性气体等，本身不参加化学反应，只是携带反应源进入反应室中，一般两种气体通过进气装置通入反应室中进行反应。

目前所使用的进气装置上由于进气口大小是固定不变的，无法根据实际的需求调节进气口的大小，从而无法控制单位时间内气体的通入量，不利于气体之间的反应，对材料生长的速度、结晶质量以及原材料利用率均有不利的影响。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中以下缺点，目前所使用的进气装置上由于进气口大小是固定不变的，无法根据实际的需求调节进气口的大小，从而无法控制单位时间内气体的通入量，不利于气体之间的反应，对材料生长的速度、结晶质量以及原材料利用率均有不利的影响，而提出的一种用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

一种用于CVD设备的多面漏斗型进气装置，包括多面管体以及固定安装在所述多面管体上的多个进气管，每个所述进气管上均固定安装有呈竖直设置的分隔板，所述进气管上固定连接有第一通气管以及第二通气管，所述分隔板两侧均固定安装有支撑架，每个所述支撑架均和所述进气管内壁固定连接，所述进气管上开设有用于安装所述分隔板的安装腔；

每个所述支撑架上均固定安装有伸缩板，所述伸缩板包括第一滑动板以及第二滑动板，所述第一滑动板和所述支撑架固定连接，所述第二滑动板和所述第一滑动板滑动连接，每个所述第二滑动板上均固定连接有固定套，所述进气管上转动安装有呈横向设置的双向丝杆，所述双向丝杆上固定连接有密封圈；

每个所述固定套均和所述双向丝杆螺纹连接，所述双向丝杆上固定连接有齿轮，所述进气管上滑动安装有和所述齿轮配合使用的齿条板，所述进气管上滑动安装有两个呈对称设置的导流板，两个所述导流板均设置在所述齿条板的上方；

所述双向丝杆远离所述进气管的一端固定连接有把手，所述把手上设置有限位机构，所述限位机构包括和所述把手滑动连接的限位杆，所述限位杆一端和所述进气管卡接。

优选的，所述进气管上开设有用于安装所述齿条板的滑槽，所述滑槽内滑动安装有滑动块，所述滑动块和所述齿条板固定连接，所述齿条板和所述齿轮啮合连接。

优选的，每个所述导流板上均固定连接有固定块，每个所述固定块上均铰接有转动杆，所述转动杆远离所述固定块的一端和所述齿条板铰接。

优选的，所述进气管上开设有用于连接所述导流板的限位槽，每个所述导流板均和所述限位槽滑动连接。

优选的，每个所述限位杆上均固定连接有弹簧，所述弹簧和所述把手固定连接。

优选的，每个所述限位杆上均螺纹连接有限位块，所述限位块用于限制所述限位杆的滑动，所述进气管上开设有多个呈环形设置的卡槽，所述限位杆和所述卡槽卡接。

优选的，每个所述支撑架上均固定连接有两个呈对称设置的密封垫，每个所述第二滑动板均安装在两个所述密封垫之间。