[发明专利]一种复合涂层结构及其制备方法在审
| 申请号： | 202111662902.8 | 申请日： | 2021-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN116417322A | 公开（公告）日： | 2023-07-11 |
| 发明（设计）人： | 陈星建;陈煌琳 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/30;C23C16/40;C23C16/455 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 贾慧琴;包姝晴 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种复合涂层结构及其制备方法，该复合涂层结构包含：覆盖在基底上的阻挡层；及，设置在阻挡层外表面的牺牲层，其耐等离子体轰击；其中，阻挡层相比牺牲层在至少一种溶剂中耐腐蚀。本发明将保护性涂层设置为可去除可替换的牺牲层，并设置一阻挡层，通过阻挡层与牺牲层对溶剂的选择性，实现在不破坏基底的条件下牺牲层的清洗、翻新，降低维修成本；并通过设置阻挡层减少牺牲层的厚度，降低涂层结构的成本；使得先进陶瓷涂层材料在纳米以及原子蚀刻工艺的规模应用成为可能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 复合 涂层 结构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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