[发明专利]一种紫外光学元件加工表面微观光伤点缺陷检测方法有效

专利信息
申请号: 202111621697.0 申请日: 2021-12-28
公开(公告)号: CN114264640B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 程健;杨丁槐;陈明君;赵林杰;刘赫男;王振华;王景贺;刘志超;王健;许乔 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G01N21/95
代理公司: 黑龙江立超同创知识产权代理有限责任公司 23217 代理人: 杨立超
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种紫外光学元件加工表面微观光伤点缺陷检测方法,它属于工程光学领域。本发明为解决现有技术中缺乏有效的微观光伤点缺陷精确辨识与检测方法的问题,本发明包括如下步骤:步骤一、确定元件加工表面尺寸最大的表面结构缺陷并完成定位;步骤二、获取步骤一定位的缺陷受不同波长激发光作用下产生的荧光发射光谱峰值强度,确定峰值强度最高的激发光波长为最佳激发光波长;步骤三、确定最佳缺陷位置;步骤四、对最佳缺陷位置受激发产生的荧光发射光谱进行高斯谱线拟合分析,确定微观光伤点缺陷的种类和权重大小;步骤五、建立元件加工表面缺陷区微观光伤点缺陷之间的演变规律及对步骤四的结果进行验证。
搜索关键词: 一种 紫外 光学 元件 加工 表面 微观 点缺陷 检测 方法
【主权项】:
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