[发明专利]一种金属氧化物介电层及其制备方法与应用有效

专利信息
申请号: 202111590980.1 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN114373589B 公开(公告)日: 2022-12-16
发明(设计)人: 宁洪龙;梁志豪;姚日晖;梁宏富;张旭;张观广;钟锦耀;李牧云;杨跃鑫;彭俊彪 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01B19/00 分类号: H01B19/00;H01B1/08
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 殷妹
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种金属氧化物介电层及其制备方法与应用。所述方法为:将含锆、铝、镁、铪和钇的无机金属盐溶于有机溶剂中得到前驱体溶液;将前驱体溶液旋涂于衬底上,进行预退火,然后进行热退火处理,得到高熵氧化物介电层薄膜。本发明利用五种常用介电材料元素(Al,Zr,Mg,Y,Hf)的协同作用和熵的主导作用来制备高熵金属氧化物薄膜,并通过增加小半径原子‑Zr4+的占比来填补薄膜空隙,从而达到降低粗糙度的目的,在增加熵值的同时保证薄膜的平整性,从而获得一个低粗糙度低功耗的介电层。
搜索关键词: 一种 金属 氧化物 介电层 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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