[发明专利]一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺

摘要

本发明公开了一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺，其工艺步骤包括玻璃基板预处理、感光胶覆膜、激光灰度直写和沉浸式显影。本发明工艺通过激光直写灰度光刻设备省去了繁琐的掩模版加工步骤，提供快速、高效和低成本光刻制程解决方案，尤其对于新产品研发阶段，可以结合材料性能频繁更新母板的设计方案，特别是对于既有遮挡层又有透镜区域形状的特殊3D形状的母板，此技术可以通过软件快速更新版图设计直写光刻母板，这就大大较低研发成本并提高研发效率。适合于微光学模组封装用母板的制作。