[发明专利]一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺

权利要求书

1.一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺，其特征是，其工艺步骤为：

S1：玻璃基板预处理：将玻璃基板切割至正方形，上下表面做抛光处理；

S2：感光胶覆膜：使用全自动覆膜机将感光胶膜贴合至玻璃基材上表面；

S3：激光灰度直写：将母板形状设计图纸转换为激光灰度直写设备可识别的文件并予以编程导入；激光灰度直写设备对焦后按程序对感光胶膜位置进行3D图形激光直写；

S4：沉浸式显影：将曝光后的母板放入盛有显影液的池中浸泡一定时间，然后再放入加有化学冲洗液的池中进行冲洗；冲洗后将母板放入烘烤箱烘干；完成整个光学母板的制作。

2.根据权利要求1所述的一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺，其特征是，步骤S4中，母板放入盛有显影液的池中浸泡20分钟-1小时。

3.根据权利要求1所述的一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺，其特征是，步骤S4中，化学冲洗液为DPMA, TMAH或TBAH冲洗液。