[发明专利]一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺

说明书

本发明公开了一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺，其工艺步骤包括玻璃基板预处理、感光胶覆膜、激光灰度直写和沉浸式显影。本发明工艺通过激光直写灰度光刻设备省去了繁琐的掩模版加工步骤，提供快速、高效和低成本光刻制程解决方案，尤其对于新产品研发阶段，可以结合材料性能频繁更新母板的设计方案，特别是对于既有遮挡层又有透镜区域形状的特殊3D形状的母板，此技术可以通过软件快速更新版图设计直写光刻母板，这就大大较低研发成本并提高研发效率。适合于微光学模组封装用母板的制作。

技术领域

本发明涉及光学母板的制作工艺领域，尤其涉及一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺，应用于微光学模组封装用母板的制作。

背景技术

对于微光学模组封装用母板，市面上较普遍的图形化方式主要为：紫外曝光机利用光刻胶对紫外线的敏感性，结合预设的掩模版，将图案转移至所需的光刻胶材料后制成母板。如果产品要求的是3D图形，传统工艺不能制作。而且通常设备与器件的价格昂贵、工艺制成繁琐。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明设计了一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺。

本发明采用如下技术方案：

一种通过高精密灰度光刻的方法制作光学母板的工艺，其工艺步骤为：

S1：玻璃基板预处理：将玻璃基板切割至正方形，上下表面做抛光处理；

S2：感光胶覆膜：使用全自动覆膜机将感光胶膜贴合至玻璃基材上表面；

S3：激光灰度直写：将母板形状设计图纸转换为激光灰度直写设备可识别的文件并予以编程导入；激光灰度直写设备对焦后按程序对感光胶膜位置进行3D图形激光直写；

S4：沉浸式显影：将曝光后的母板放入盛有显影液的池中浸泡一定时间，然后再放入加有化学冲洗液的池中进行冲洗；冲洗后将母板放入烘烤箱烘干；完成整个光学母板的制作。

作为优选，步骤S4中，母板放入盛有显影液的池中浸泡20分钟-1小时。

作为优选，步骤S4中，化学冲洗液为DPMA, TMAH或TBAH冲洗液。

本发明的有益效果是：本发明工艺通过激光直写灰度光刻设备省去了繁琐的掩模版加工步骤，提供快速、高效和低成本光刻制程解决方案，尤其对于新产品研发阶段，可以结合材料性能频繁更新母板的设计方案，特别是对于既有遮挡层又有透镜区域形状的特殊3D形状的母板，此技术可以通过软件快速更新版图设计直写光刻母板，这就大大较低研发成本并提高研发效率。适合于微光学模组封装用母板的制作。

附图说明

图1是通过本发明工艺得到的光学母板的一种俯视图；

图2是玻璃基板的一种侧视图；

图3是玻璃基板贴感光胶膜的一种侧视图；

图4是图3中结构进行激光灰度直写的一种侧视图；

图5是通过本发明工艺得到的光学母板的一种侧视图；

图中：1、玻璃基板，2、感光胶膜，3、遮挡层，4、透镜区域。