[发明专利]半导体工艺设备用排水装置和半导体工艺设备在审
| 申请号： | 202111556246.3 | 申请日： | 2021-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN114216350A | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 陈振伟;石磊 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | F28B9/08 | 分类号： | F28B9/08;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 周永强 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体工艺设备用排水装置和半导体工艺设备，包括集水盒和排水机构，其中：排水机构包括缸体、活塞、第一单向阀和第二单向阀，活塞滑动地设于缸体内，活塞与缸体可形成暂存空间，集水盒通过进水管与暂存空间连通，第一单向阀设于进水管，缸体设有排水管，第二单向阀设于排水管；在活塞沿第一方向移动的情况下，第一单向阀打开，第二单向阀关闭；在活塞沿第二方向移动的情况下，活塞挤压暂存空间，以通过暂存空间内的水驱使第一单向阀关闭，第二单向阀打开，第一方向和第二方向相反。上述方案可以解决集水盒在排水时，集水盒内的压力存在不稳定的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺 备用 排水 装置 工艺设备 | ||
【主权项】：
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