[发明专利]一种添加剂及包含该添加剂的光刻胶组合物

摘要

本发明公开了一种添加剂及包含该添加剂的光刻胶组合物，所述添加剂为吡唑啉类化合物，由两个相连的氮原子和三个碳原子组成的五元杂环化合物，并具有一个双键，该结构中含有孤对电子，可以和金属原子形成共价键，吡唑啉类化合物是一类非常重要的有机杂环化合物；本发明公开的光刻胶组合物的原料包括线性酚醛树脂、感光剂、溶剂、增感剂、流平剂和上述添加剂，该种添加剂可以吸附于金属表面形成致密保护膜，抑制金属的腐蚀，减少在显影过程中侧面腐蚀的发生，有效提高光刻胶的耐蚀性。