[发明专利]过孔的制作方法、掩膜版以及显示装置

摘要

本申请提供了一种过孔的制作方法、掩膜版以及显示装置，所述过孔的制作方法包括：提供一衬底基板，衬底上包括第一金属层和绝缘层，绝缘层设置于第一金属上；在绝缘层上方提供刻蚀辅助层，刻蚀辅助层的刻蚀速率大于绝缘层的刻蚀速率；在刻蚀辅助层上提供掩膜版，采用曝光、显影工艺形成光刻图案；采用干刻工艺刻蚀该刻蚀辅助层和绝缘层，形成过孔，第一金属层显露于过孔，过孔用于绝缘层上的第二金属和第一金属的搭接。本申请通过在绝缘层的上方形成一层刻蚀辅助层，通过设置刻蚀辅助层的刻蚀速率小于绝缘层的刻蚀速率，防止对应过孔深处的绝缘层新的物质的生成，从而可以避免过孔形成陡峭的坡度角，通过对过孔角度的控制。