[发明专利]阵列基板及其制作方法有效
| 申请号： | 202111491101.X | 申请日： | 2021-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN114137771B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 刘倩 | 申请（专利权）人： | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343;G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 汪阮磊 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开一种阵列基板及其制作方法。阵列基板包括基板、薄膜晶体管、第一钝化层、有机膜层、公共电极、第二钝化层及像素电极层。有机膜层包括位于薄膜晶体管上方的第一过孔。公共电极覆盖像素区域，并包括第二过孔及围绕第二过孔的缓壁。第二过孔连通第一过孔，且缓壁的底缘与第一过孔的顶缘之间具有间距。第二钝化层包括连通第二过孔的第三过孔。像素电极层设在第二钝化层上，并通过第一过孔、第二过孔及第三过孔连接第二金属层，以优化公共电极的过孔边缘形貌，提升应付制程波动限度。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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