[发明专利]一种双晶内存条上下位的修补方法、装置及设备在审

专利信息
申请号: 202111450076.0 申请日: 2021-11-30
公开(公告)号: CN114141296A 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 陈晖;张丽丽;朱星宇;明振东 申请(专利权)人: 深圳市嘉合劲威电子科技有限公司
主分类号: G11C29/00 分类号: G11C29/00;G11C29/18
代理公司: 深圳市智胜联合知识产权代理有限公司 44368 代理人: 王月
地址: 518000 广东省深圳市坪山区龙田街道老*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供了一种双晶内存条上下位的修补方法和装置,包括:依据不良IC的类型和不良区域,对所述不良IC进行分组;从所述A组、B组、C组、D组和E组中选择其中两组不良IC,以及从选中的其中一组选择至少2个不良IC,从选中的另一组选择至少1个不良IC,并依据所述不良IC的分组和预设规则,划分所述不良IC中地址线位的IC位区;依据所述IC位区和所述不良IC的类型,调整×16IC双晶封装的PCB板的布局。通过上述方法可对不良品的DDP类型封装的内存进行修补,利用出厂的内存IC存在不良产品,通过修补使其变为合格产品,有效的利用了不良产品,节省资源,同时也在一定程度上有利于环境的保护。
搜索关键词: 一种 双晶 内存条 下位 修补 方法 装置 设备
【主权项】:
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