[发明专利]一种高剩磁比、低孔隙率六角铁氧体厚膜及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 202111395507.8 | 申请日： | 2021-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN113990658B | 公开（公告）日： | 2023-01-06 |
| 发明（设计）人： | 汤如俊;彭峰 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | H01F41/16 | 分类号： | H01F41/16;H01F41/22;H01F41/14;H01F13/00;H01F10/20;H01P1/38 |
| 代理公司： | 苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257 | 代理人： | 杨慧林 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种高剩磁比、低孔隙率六角铁氧体厚膜及其制备方法与应用，所述制备方法包括以下步骤：(1)将BaM粉末与有机载体混合、研磨，得到混合均匀的浆料；(2)将浆料通过丝网印刷法涂抹到Al |
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| 搜索关键词： | 一种 剩磁 孔隙率 六角 铁氧体 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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