[发明专利]一种薄膜缺陷喷码补喷处理方法及处理系统有效
| 申请号： | 202111394495.7 | 申请日： | 2021-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN113978139B | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | 田霖 | 申请（专利权）人： | 深圳市盛波光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B41J3/407 | 分类号： | B41J3/407;B41J2/01;B41J29/393 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 胡吉科 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种薄膜缺陷喷码补喷处理方法及处理系统，该方法包括：缺陷坐标处理，检测喷码缺陷，看是否存在光学检测设备过载的区域，是否存在喷码机来不及喷码的区域，是否存在缺陷成团簇状尺寸较大的区域，并对应处理为响应的缺陷坐标；在薄膜边缘一侧以设定间隔距离喷二维码进行坐标定位，所述二维码的内容对应卷料信息和与上一个二维码之间间隔段的缺陷坐标信息；对缺陷坐标进行处理，得到补喷缺陷列表；坐标转换处理，下工序读取二维码，每读取一个二维码，提取出对应的缺陷坐标，进行坐标转换，转换成补喷喷码坐标；进行补喷。采用本发明的技术方案，可以将喷码率从98%提升到100%；避免人力物力的浪费，降低了客诉的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 缺陷 喷码补喷 处理 方法 系统 | ||
【主权项】：
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