[发明专利]基板处理装置在审
| 申请号： | 202111331885.X | 申请日： | 2021-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN114496708A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 今田祥友 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种安全且简便地对腔室进行维护的基板处理装置。该基板处理装置包括：腔室；多个单元，布置在所述腔室上；以及升降机构，使所述多个单元升降，其中，所述多个单元中的至少任意一个具有单元侧槽，所述升降机构具有升降机构侧槽，通过将固定部件插入至所述多个单元中的至少任意一个的单元侧槽和所述升降机构侧槽，从而在将所述多个单元固定到所述升降机构的状态下使所述多个单元升降。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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