[发明专利]一种半导体清洗设备用烘干装置有效

专利信息
申请号: 202111259159.1 申请日: 2021-10-28
公开(公告)号: CN113701464B 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 徐竹起 申请(专利权)人: 华林科纳(江苏)半导体设备有限公司
主分类号: F26B9/06 分类号: F26B9/06;F26B21/00;F26B25/00
代理公司: 南通云创慧泉专利代理事务所(普通合伙) 32585 代理人: 邵永永
地址: 226500 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种半导体清洗设备用烘干装置,包括:烘干箱和超声波发生器,超声波发生器固定设置在烘干箱的内部;烘干辅助组件,设置在烘干箱的内部且用于驱动半导体做圆周运动,烘干辅助组件包括多个第一转动圈和第二转动圈。本发明通过将超声波发生器启动,由于超声波具有空化效应,即超声波能在水中产生气泡,这就使得导体晶片表面的液体能够产生气泡,且气泡炸开会使得液体形成较小的液滴,当空气泵驱动进风组件和出风组件形成循环风道时,空气的流通会加速液体的蒸发,使得炸开后较小的液滴要么被蒸发要么被风流带走,从而起到无须热风即可实现烘干的操作,避免半导体因温度过高造成损坏的情况发生。
搜索关键词: 一种 半导体 清洗 备用 烘干 装置
【主权项】:
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