[发明专利]一种半导体清洗设备用烘干装置

说明书

本发明公开了一种半导体清洗设备用烘干装置，包括：烘干箱和超声波发生器，超声波发生器固定设置在烘干箱的内部；烘干辅助组件，设置在烘干箱的内部且用于驱动半导体做圆周运动，烘干辅助组件包括多个第一转动圈和第二转动圈。本发明通过将超声波发生器启动，由于超声波具有空化效应，即超声波能在水中产生气泡，这就使得导体晶片表面的液体能够产生气泡，且气泡炸开会使得液体形成较小的液滴，当空气泵驱动进风组件和出风组件形成循环风道时，空气的流通会加速液体的蒸发，使得炸开后较小的液滴要么被蒸发要么被风流带走，从而起到无须热风即可实现烘干的操作，避免半导体因温度过高造成损坏的情况发生。

技术领域

本发明涉及半导体烘干设备技术领域，具体为一种半导体清洗设备用烘干装置。

背景技术

在半导体的制造过程中，需要图形转移工艺，其中包括光刻工艺。光刻工艺是一种图形复印技术，是半导体制造工艺中一项关键的技术。简单来说，光刻受到照相技术的启发，利用光刻胶感光特性，将光刻掩膜板的图形精确地复印到涂在晶圆上的光刻胶上。在将光刻胶旋涂到晶圆之前，因为晶圆表面进行清洗，所以需要对晶圆表面进行烘干。

但是现有技术在实际使用时，现有的烘干技术均是通过对半导体表面通过热风，然而这种方式很容易造成局部积热产生高温进而损坏半导体内部结构。

发明内容

本发明的目的在于提供一种半导体清洗设备用烘干装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：包括：

烘干箱和超声波发生器，所述超声波发生器固定设置在烘干箱的内部；

烘干辅助组件，设置在烘干箱的内部且用于驱动半导体做圆周运动，所述烘干辅助组件包括多个第一转动圈和第二转动圈，且多个第一转动圈和第二转动圈在竖直方向交错设置，所述第一转动圈和第二转动圈相对面的一端均活动设有多个放置球，所述放置球为镂空结构，且放置球的表面开设有放置槽，多个所述第一转动圈的表面均固定连接有连接架，所述放置球的表面固定连接有齿圈，所述第一转动圈和第二转动圈相对应齿圈位置的一端均分别开设有齿槽，且齿圈的表面与齿槽的内壁相啮合，所述放置球的内壁固定连接有连接杆，所述连接杆远离放置球内壁的一端固定连接有定位橡胶球，所述第一转动圈和第二转动圈相对应齿圈位置的一端均分别固定连接有导向轨道，且齿圈活动连接在导向轨道的内壁，所述第一转动圈和第二转动圈大小相等；

驱动组件，设置在烘干箱的内部且用于为烘干辅助组件提供动力，所述驱动组件包括驱动电机和安装盒，所述驱动电机和安装盒均分别固定连接在烘干箱内壁的底部，且驱动电机位于安装盒的内部，所述驱动电机输出轴的顶部固定连接有驱动轴，所述驱动轴通过密封轴承活动贯穿并延伸至安装盒的顶部，所述驱动轴相对应顶部和底部第一转动圈位置的表面均分别通过轴承转动连接有转动套，所述转动套的表面固定连接有第一驱动杆，且第一驱动杆固定连接在第一转动圈的内壁，所述驱动轴相对应第二转动圈位置的表面固定连接有第二驱动杆，且第二驱动杆固定连接在第二转动圈的内壁，所述烘干箱内壁的顶部以及安装盒的顶部均分别固定连接有固定架，所述固定架相对应驱动轴位置的一端固定连接有第二伞齿轮，所述固定架的一端和第二伞齿轮均倾斜设置，所述第二伞齿轮的表面分别啮合有第一伞齿轮和第三伞齿轮，所述第一伞齿轮固定连接在转动套的表面，且第三伞齿轮固定连接在驱动轴的表面，所述驱动轴通过密封轴承活动贯穿并延伸至烘干箱的顶部，所述驱动轴的顶部固定连接有扭块，所述第一伞齿轮的直径大于第三伞齿轮的直径；

进风组件和出风组件，所述进风组件和出风组件分别设置在烘干箱的底部和顶部，且用于在烘干箱的内部形成循环风道并除去空气中的液体；

空气泵，设置在烘干箱的表面且为进风组件和出风组件在烘干箱的内部形成循环风道提供动力源。

优选的，所述超声波发生器的数量为两个，其中一个所述超声波发生器固定连接在烘干箱内壁的顶部，且另一个超声波发生器固定连接在安装盒的顶部。