[发明专利]一种表面具有纳米锥尖结构的自支撑掺硼金刚石膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111250868.3 申请日: 2021-10-26
公开(公告)号: CN113981411A 公开(公告)日: 2022-01-28
发明(设计)人: 张静;于翔;赵志岩;裴敬轩;张志强 申请(专利权)人: 山东省科学院新材料研究所
主分类号: C23C16/27 分类号: C23C16/27;C23C16/02;C23C16/56;C23C16/52;C23F1/24;H01G11/24;H01G11/30
代理公司: 北京兴智翔达知识产权代理有限公司 11768 代理人: 李琴
地址: 250014 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种表面包括纳米锥尖结构的自支撑掺硼金刚石膜及其制备方法,自支撑掺硼金刚石膜厚度为450‑550μm,表面分布有垂直于自支撑掺硼金刚石膜表面的纳米锥尖结构,所述纳米锥尖的长度为200‑500nm,相邻纳米锥尖之间的间距为10‑200nm,本发明是以金属钼为基底,使用热丝化学气相沉积设备沉积得到自支撑掺硼金刚石膜;随后,使用氧离子反应离子刻蚀技术对自支撑掺硼金刚石膜进行刻蚀得到表面具有纳米锥尖结构的自支撑掺硼金刚石膜。本发明中,自支撑掺硼金刚石膜与纳米锥尖结合的方式来极大地提高了掺硼金刚石膜的电化学导电性能,同时本发明的制备方法新颖、简单有效、成本低,具有广泛的市场应用前景。
搜索关键词: 一种 表面 具有 纳米 结构 支撑 金刚石 及其 制备 方法
【主权项】:
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