[发明专利]阵列基板及其制备方法和显示面板在审

专利信息
申请号: 202111250392.3 申请日: 2021-10-26
公开(公告)号: CN114023768A 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 黄嘉辉 申请(专利权)人: 惠州华星光电显示有限公司;TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 黄舒悦
地址: 516000 广东省惠州市仲*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请公开了一种阵列基板及其制备方法和显示面板,阵列基板包括衬底、有源层、蚀刻保护层、欧姆接触层、源极和漏极,有源层设置于衬底上,蚀刻保护层与欧姆接触层同层设置,且蚀刻保护层位于有源层的本体部上,欧姆接触层位于有源层的第一导通部以及第二导通部上,源极设置于位于有源层的第一导通部上的欧姆接触层上,漏极设置于位于有源层的第二导通部上的欧姆接触层上。本申请通过在有源层的本体部上设置由绝缘材料形成的蚀刻保护层,避免在后续蚀刻相邻膜层时,有源层的本体部受到损伤,进而提高阵列基板的性能。
搜索关键词: 阵列 及其 制备 方法 显示 面板
【主权项】:
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