[发明专利]步进光刻的控制方法、装置、设备及存储介质在审
| 申请号： | 202111244938.4 | 申请日： | 2021-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN114326320A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 陈国军;吴景舟;马迪 | 申请（专利权）人： | 江苏迪盛智能科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 陈金忠 |
| 地址： | 215100 江苏省苏州市吴中*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种步进光刻的控制方法、装置、设备及存储介质。该步进光刻的控制方法包括：获取光刻设备一次步进后的实际移动距离；根据实际移动距离和预设步进步长确定一次步进的步进误差；基于步进误差对光斑图像进行调整，以补偿步进误差产生的曝光图像误差。本方案通过调整光斑图像投影的具体位置，从而在保证光斑图像位置的准确性的基础上，实现在待光刻件上曝光图像不会产生缝隙或重叠的部分，实现曝光图像的连续性，提高曝光图像的精确度。 | ||
| 搜索关键词： | 步进 光刻 控制 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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