[发明专利]半导体装置和包括其的电子系统在审

专利信息
申请号: 202111210405.4 申请日: 2021-10-18
公开(公告)号: CN114446985A 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 黄盛珉;金智源;安在昊;任峻成;成锡江 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11575;H01L27/11582
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 赵南;肖学蕊
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体装置和电子系统,所述装置包括堆叠在外围电路结构上的单元结构,其中,单元结构包括第一层间电介质层以及在第一层间电介质层暴露并且连接至栅电极层和沟道区的第一金属焊盘,所述外围电路结构包括第二层间电介质层和在第二层间电介质层暴露并且连接至晶体管的第二金属焊盘,第一金属焊盘包括邻近的第一子焊盘和第二子焊盘,第二金属焊盘包括邻近的第三子焊盘和第四子焊盘,第一子焊盘和第三子焊盘耦接,并且第一子焊盘的宽度大于第三子焊盘的宽度,第二子焊盘和第四子焊盘耦接,并且第四子焊盘的宽度大于第二子焊盘的宽度。
搜索关键词: 半导体 装置 包括 电子 系统
【主权项】:
暂无信息
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