[发明专利]抗穿击OLED电致发光器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111191511.2 申请日: 2021-10-13
公开(公告)号: CN115942797A 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 叶子云;卢泓;刘纪文 申请(专利权)人: 武汉华美晨曦光电有限责任公司
主分类号: H10K59/121 分类号: H10K59/121;H10K59/131;H10K59/179;H10K59/17;H10K71/00
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 卢霞
地址: 430223 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了抗穿击OLED电致发光器件及其制备方法,电致发光器件包括依次连接的基板、第一电极层、绝缘层、辅助电极层、有机层和第二电极层,第一电极层包括像素主分隔区以及被像素主分隔区分隔而成的至少两个像素单元;每一个像素单元通过一个像素辅助隔断区分隔为像素发光区和像素引出区;像素主分隔区与其相邻的一列或一行像素辅助隔断区内布置绝缘层;绝缘层顶部设辅助电极,对应像素引出区顶部设贯穿通孔给导电材料穿过将像素引出区和像素发光区连接辅助电极及外部电源;并且在两个像素单元之间形成向基板凹进的开口区。本发明的器件及方法,有效防止了单个像素点短路而造成的整个器件的失效,提高了器件的可靠性、发光均匀性以及开口率。
搜索关键词: 抗穿击 oled 电致发光 器件 及其 制备 方法
【主权项】:
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