[发明专利]一种改善硅片外延倒角层倒角设备及操作方法有效

专利信息
申请号: 202111170724.7 申请日: 2021-10-08
公开(公告)号: CN113787408B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 高洪涛 申请(专利权)人: 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
主分类号: B24B9/06 分类号: B24B9/06;B24B47/04;B24B41/06;B24B41/00;B24B41/02
代理公司: 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266 代理人: 沈相权
地址: 311201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种改善硅片外延倒角层倒角设备及操作方法,包括支撑架,所述安装板的一侧贯穿有送料盒,所述支撑架内腔的顶部固定有安装架,所述安装架的内表面转动连接有螺纹杆,通过在安装板上贯穿设置准心斗,利用准心斗内表面的推块,当第二电动伸缩杆进行第一次伸长时,能够使得准心块与硅片相接触并处于水平状态,当第二电动伸缩杆进行缩短时,由于硅片是水片的,因此在准心块下落的过程中,硅片偏移的一侧会被准心斗的内壁推动,同时保持在推块上的水平状态,当处于硅片的一周与准心斗的内壁相接触,此时的硅片处于准心斗的中心位置,此结构较为简单,而且不会对硅片造成损害,易于推广。
搜索关键词: 一种 改善 硅片 外延 倒角 设备 操作方法
【主权项】:
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