[发明专利]一种改善硅片外延倒角层倒角设备及操作方法有效

专利信息
申请号: 202111170724.7 申请日: 2021-10-08
公开(公告)号: CN113787408B 公开(公告)日: 2022-08-23
发明(设计)人: 高洪涛 申请(专利权)人: 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
主分类号: B24B9/06 分类号: B24B9/06;B24B47/04;B24B41/06;B24B41/00;B24B41/02
代理公司: 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266 代理人: 沈相权
地址: 311201 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 改善 硅片 外延 倒角 设备 操作方法
【权利要求书】:

1.一种改善硅片外延倒角层的倒角设备,包括支撑架(1),其特征在于,支撑架(1)内壁的一侧固定连接有安装板(4),所述安装板(4)的一侧贯穿有送料盒(5),所述支撑架(1)内腔的顶部固定有安装架(6),所述安装架(6)的内表面转动连接有螺纹杆(8),安装架(6)的一侧固定连接有转动电机(7),转动电机(7)的输出端与螺纹杆(8)的一端固定连接,所述螺纹杆(8)的外表面螺纹连接有螺纹块(10),所述螺纹块(10)的底部固定连接有电动推杆(11),所述电动推杆(11)的输出端通过密封轴承转动连接有吸盘(12),支撑架(1)的底部固定连接有第一电动伸缩杆(3),第一电动伸缩杆(3)的输出端贯穿送料盒(5)的内部,第一电动伸缩杆(3)的输出端固定连接有推板(9),所述支撑架(1)底部的另一侧固定连接有第二电动伸缩杆(16),所述安装板(4)的顶部且位于送料盒(5)的一侧贯穿有准心斗(17),所述准心斗(17)的内表面滑动连接有推块(18)。

2.根据权利要求1所述的一种改善硅片外延倒角层的倒角设备,其特征在于,所述支撑架(1)的顶部固定连接有真空泵(13),所述真空泵(13)的输气端连通有软管(14),所述软管(14)的一端与吸盘(12)的内部连通。

3.根据权利要求2所述的一种改善硅片外延倒角层的倒角设备,其特征在于,所述支撑架(1)内壁的左右两侧均设置有定位板(15),所述安装板(4)的另一侧设置有倒角组件(19)。

4.根据权利要求3所述的一种改善硅片外延倒角层的倒角设备,其特征在于,所述倒角组件(19)包贯穿安装板(4)的固定套(197)和位于安装板(4)上的滑动槽(194),所述固定套(197)的内表面转动连接有转动轴(192),所述滑动槽(194)的内表面滑动连接有滑动套(193),所述滑动套(193)的内表面转动连接有滑动轴(191),所述滑动轴(191)的顶端固定连接有支撑板(195),所述转动轴(192)的顶端固定连接有打磨盘(196)。

5.根据权利要求4所述的一种改善硅片外延倒角层的倒角设备,其特征在于,所述滑动轴(191)的外表面固定连接有第一槽轮(198),所述转动轴(192)的外表面固定连接有第二槽轮(199),所述支撑架(1)内腔的底部固定连接有驱动电机(1916),所述驱动电机(1916)的输出端固定连接有蜗杆(1917),所述安装板(4)与支撑架(1)内腔的底部之间滑动连接有驱动轴(1914),所述驱动轴(1914)外表面的下方设置有蜗轮(1915),所述蜗杆(1917)的外表面与蜗轮(1915)的外表面相啮合。

6.根据权利要求5所述的一种改善硅片外延倒角层的倒角设备,其特征在于,所述驱动轴(1914)的顶端和底端均开设有滚槽,滚槽的内表面滚动连接有滚珠(1918),所述安装板(4)的底部与支撑架(1)内腔的底部均开设有行程槽(1923)。

7.根据权利要求6所述的一种改善硅片外延倒角层的倒角设备,其特征在于,所述驱动轴(1914)外表面的上方固定连接有驱动槽轮(1910),所述第一槽轮(198)、第二槽轮(199)和驱动槽轮(1910)的外表面之间设置有V形带(1911),所述支撑架(1)的内壁的一侧贯穿有伸缩气缸(1912),所述伸缩气缸(1912)的输出端固定连接有转动套(1913),所述转动套(1913)的内表面与驱动轴(1914)的外表面转动连接。

8.根据权利要求7所述的一种改善硅片外延倒角层的倒角设备,所述滑动轴(191)的外表面且位于第一槽轮(198)的上方转动连接有拉杆(1919),所述安装板(4)的底部且位于第一槽轮(198)的一侧固定连接有滑动框(1920),所述滑动框(1920)内壁的一侧固定连接有拉力弹簧(1921),所述拉力弹簧(1921)的一端固定连接有连接杆(1922),所述连接杆(1922)的一端与拉杆(1919)的一端固定连接。

9.一种改善硅片外延倒角层的倒角设备的操作方法,其特征在于,首先将硅片放入送料盒(5)的内部,此时通过外部的PLC启动电动推杆(11),电动推杆(11)进行伸长,并与硅片相接近,此时启动真空泵(13),通过软管(14)将吸盘(12)内的空气抽出,使得吸盘(12)吸住硅片,此时通过转动电机(7)的转动带动螺纹杆(8)进行转动,带动螺纹块(10)在安装架(6)的内表面进行移动,当电动推杆(11)移动至左侧的定位板(15)时,转动电机(7)停止转动,并通过真空泵(13)将吸盘(12)内充入空气,使得硅片落入准心斗(17)的内表面,通过水平定心下落的方式,使得硅片位于准心斗(17)的中心位置,此时启动第二电动伸缩杆(16)进行伸长,从而使得推块(18)向上移动,并顶着硅片向上移动,当硅片不再与准心斗(17)的内表面相接触时,此时的硅片处于水平状态,然后再将第二电动伸缩杆(16)进行缩回,此时推块(18)缓慢向下滑落,并且硅片与准心斗(17)的边缘相接触,当硅片不在推块(18)的中心位置时,在硅片向下落的过程会使得准心斗(17)的内壁会推动硅片向中间位置移动,当推块(18)不再与硅片接触后,此时的硅片位于准心斗(17)的中心位置,此时再次启动第二电动伸缩杆(16)顶起推块(18),同理,吸盘(12)吸住硅片,此时的转动电机(7)再次进行转动,当电动推杆(11)移动至右侧的定位板(15)时,电动推杆(11)下落将硅片压在支撑板(195)上,此时通过外部的PLC,使得电动伸缩杆进行伸长,从而使得V形带(1911)被拉动,进而使得滑动套(193)带动滑动轴(191)在滑动槽(194)的内部向靠近打磨盘(196)的一侧进行运动,转动电机(7)进行转动,使得电动推杆(11)与滑动轴(191)进行同步移动,此时启动驱动电机(1916),从而带动蜗杆(1917)进行转动,进一步带动蜗轮(1915)进行转动从而带动驱动轴(1914)进行转动,通过驱动槽轮(1910)和V形带(1911)分别带动第二槽轮(199)和第一槽轮(198)进行转动,此时的支撑板(195)和转动轴(192)进行转动,从而使得打磨盘(196)对硅片进行倒角。

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