[发明专利]一种可以增强发光性能的类金刚石薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111161403.0 申请日: 2021-09-30
公开(公告)号: CN113981368B 公开(公告)日: 2023-09-22
发明(设计)人: 杜文汉;陈旺泽;顾俨湘;杨景景 申请(专利权)人: 常州工学院
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/35;C23C14/08;C23C14/58;C23C14/02
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 李静
地址: 213032 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种可以增强发光性能的类金刚石薄膜的制备方法,包括:(1)预处理:清洗硅片表面杂质;(2)碱刻蚀:利用碱性溶液对所述硅片进行腐蚀,在硅片的表面形成倒金字塔结构;(3)硅衬底上沉积氧化膜:在有倒金字塔结构的硅衬底上沉积氧化锶薄膜,并在真空条件下退火,去除硅表面的氧化硅层;(4)硅衬底上生长类金刚石薄膜:除去氧化硅后,在氧化锶薄膜上沉积多晶型类金刚石薄膜;沉积多晶型类金刚石薄膜的工艺是:以石墨作为靶材,通入氩气,利用磁控溅射方法沉积形成多晶型类金刚石薄膜。本发明的方法采用在硅衬底上沉积氧化锶去除硅表面氧化硅层的方法,减少了类金刚石薄膜中非晶态的比例,提高了类金刚石薄膜的结晶质量。
搜索关键词: 一种 可以 增强 发光 性能 金刚石 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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