[发明专利]一种高内聚,耐溶剂的低撕膜电压保护膜及其加工方法在审

专利信息
申请号: 202111124638.2 申请日: 2021-09-25
公开(公告)号: CN113667423A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 顾正青;黄秋明;陈启峰;周奎任 申请(专利权)人: 苏州世华新材料科技股份有限公司
主分类号: C09J7/25 分类号: C09J7/25;C09J7/30;C09J7/40;C09J163/10;C09J167/06;C09J133/00;C09J11/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215200 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种高内聚,耐溶剂的低撕膜电压保护膜及其加工方法。所述低撕膜电压保护膜依次包括PET基材、胶层、PET离型膜;所述胶层的原材料包括以下组分:按重量百分比计,光敏树脂20~30%、热固丙烯酸树脂40~60%、反应性单体2~5%、光引发剂2~5%、热固化剂1~5%、电子受体1~5%。有益效果:通过优化电子受体种类和含量,联合电子受体与热固化剂的预搅拌工艺、热和光的双固化工艺制备得到性能优异的胶层,并用于低撕膜电压保护膜中,显著提高了低撕膜电压保护膜的耐溶剂性和内聚力;有效抑制了小分子的析出;同时,降低了撕膜电压保护膜的时间成本,提高了市场竞争力。
搜索关键词: 一种 高内聚 溶剂 低撕膜 电压 保护膜 及其 加工 方法
【主权项】:
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