[发明专利]用于处理基板的装置在审
| 申请号： | 202111115463.9 | 申请日： | 2021-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN114256050A | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 孙德铉 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 侯志源 |
| 地址： | 韩国忠清南道天安*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于处理基板的装置，该装置包括处理基板的工艺腔室、容纳待传输至工艺腔室中的环状构件的缓冲模块、以及具有内部空间的装载锁定腔室。缓冲模块包括缓冲腔室，缓冲腔室具有缓冲空间，环状构件容纳在该缓冲空间中；支承架；该支承架支承缓冲空间中的环状构件；以及移动支承架的驱动构件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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