[发明专利]一种非接触式微弧抛光装置及工艺在审

专利信息
申请号: 202111097390.5 申请日: 2021-09-18
公开(公告)号: CN113789566A 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 肖志宏 申请(专利权)人: 青沃精密仪器(苏州)有限公司
主分类号: C25F3/16 分类号: C25F3/16;C25F7/00
代理公司: 上海领匠知识产权代理有限公司 31404 代理人: 李华
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种非接触式微弧抛光装置及工艺,涉及材料加工领域,包括箱体,箱体的顶端内壁通过液压杆连接有升降盒,箱体的下部为电解液池,电解液池内设置有通过出水口和入水口穿过箱体壁连接的冷却水环,冷却水环的底部设置有涡轮叶,冷却水环在出水口与入水口的内部均设有温度探头,所述升降盒可通过顶端中心设置的电机二,调节根电极管的间距,所述电极管末端设置有夹片。本发明通过在冷却水环的底部设置涡轮叶使工件不触碰到电解液池底部,从而使工件的每一个面都得到充分的抛光,设置了温度探头可根据池内温度启动或停止降温,使电解液池内保持相对恒定的温度,设计了便于更换电极片的装夹结构与便于调节电极管间距的机械结构。
搜索关键词: 一种 接触 式微 抛光 装置 工艺
【主权项】:
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