[发明专利]用于铁氧体加工的磁控溅射方法在审
| 申请号： | 202111072149.7 | 申请日： | 2021-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN113930733A | 公开（公告）日： | 2022-01-14 |
| 发明（设计）人： | 徐超;吴鹏;于正国 | 申请（专利权）人： | 赛创电气（铜陵）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/18;C23C14/02 |
| 代理公司： | 铜陵市嘉同知识产权代理事务所(普通合伙) 34186 | 代理人： | 吴晨亮 |
| 地址： | 244000 安徽省铜陵*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了用于铁氧体加工的磁控溅射方法，（1）、清洗铁氧体裸基板：清洗剂水浴超声震荡→QDR清洗→纯水超声→QDR清洗→纯水超声→QDR清洗→纯水超声→无水乙醇超声→无水乙醇保存；（2）、镀膜：将铁氧体裸基板从无水乙醇取出，使用镊子逐片夹取，吹干表面残余药液，现取现用，镍铬靶材功率为1kw，氩气流量200sccm，对铁氧体裸基板进行磁控溅镀，得到对应膜层厚度0.04um‑0.06um的板材。本发明的有益效果是经过对磁控溅射的工艺进行改进，得到了膜层厚度在0.06um以下的板材，且膜层与基板的结合力满足要求。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 铁氧体 加工 磁控溅射 方法 | ||
【主权项】：
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