[发明专利]基底处理方法在审
| 申请号： | 202111048371.3 | 申请日： | 2021-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN113909220A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 王献伟 | 申请（专利权）人： | 联芯集成电路制造(厦门)有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 361100 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基底处理方法，包括下列步骤。提供一静电吸盘(electrostatic chuck，ESC)结构，并将一第一基底放置在静电吸盘结构上。对静电吸盘结构进行一清理制作工艺，用以移除静电吸盘结构上的堆积物。在清理制作工艺中，第一基底在一垂直方向上覆盖静电吸盘结构的上表面。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 处理 方法 | ||
【主权项】：
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