[发明专利]一种半导体制程管道的清洁方法在审
申请号: | 202111021987.1 | 申请日: | 2021-09-01 |
公开(公告)号: | CN113718248A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 赵振合 | 申请(专利权)人: | 筑磊半导体技术(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C26/00 | 分类号: | C23C26/00;C23C18/32;C23C18/18;C23C22/00;C23C28/00;C09D7/61;C09D5/08;C09D1/00 |
代理公司: | 北京沃知思真知识产权代理有限公司 11942 | 代理人: | 唐丽萍 |
地址: | 201824 上海市嘉定区真*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种半导体制程管道的清洁方法,涉及半导体制程管道技术领域,包括以下步骤:预先制备清洁涂料,再进行对半导体制程管道进行二次总成钝化,进行保护焊缝区域因打磨处理而导致一次钝化膜被破坏的区域,进行对半导体制程管道被焊缝区域进行浸镍处理,将制备半成品涂抹清洁涂料制得成品。本发明经浸镍处理的半导体制程管道,强度大大提高,而通过半导体制程管道涂抹清洁涂料,提高其耐腐蚀性能,不仅消除潜在质量隐患,满足加工工艺要求且满足生产装配需求的同时,而且使用状况优良,延长半导体制程管道的使用寿命,保证生产装配运营,节约生产售后维修成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 管道 清洁 方法 | ||
【主权项】:
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