[发明专利]一种替硝唑工艺杂质及其合成方法有效
| 申请号： | 202110998497.0 | 申请日： | 2021-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN113683569B | 公开（公告）日： | 2022-05-31 |
| 发明（设计）人： | 孙立杰;石红超;田鹏美;魏赛丽;张伟丽;延春霞;张雪彤;孙朝振 | 申请（专利权）人： | 河北广祥制药有限公司 |
| 主分类号： | C07D233/94 | 分类号： | C07D233/94;G01N30/02;G01N30/06;G01N30/86 |
| 代理公司： | 河北国维致远知识产权代理有限公司 13137 | 代理人： | 庞玉净 |
| 地址： | 061100 河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： |
本发明涉及化学合成技术领域，具体公开一种替硝唑工艺杂质及其合成方法。所述替硝唑工艺杂质的结构如式(Ⅰ)所示，合成方法包括如下步骤：以4‑硝基咪唑和羟基乙硫醚为原料，以苯类化合物为溶剂，在浓硫酸的作用下进行缩合反应，得式(Ⅱ)所示的化合物；式(Ⅱ)所示的化合物在可溶性钼酸盐的催化作用下，经双氧水氧化，得式(Ⅰ)所示的替硝唑工艺杂质。本发明通过特定的合成工艺，制备得到了纯度可达99.7％以上的替硝唑工艺杂质，解决了替硝唑工艺杂质对照品来源的问题，有利于进一步完善替硝唑原料药或其制剂的质量标准。 |
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| 搜索关键词： | 一种 替硝唑 工艺 杂质 及其 合成 方法 | ||
【主权项】：
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