[发明专利]阵列基板及其制备方法在审
| 申请号： | 202110975110.X | 申请日： | 2021-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN113745343A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 卓毅 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/34 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 唐秀萍 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种阵列基板及其制备方法。所述阵列基板包括遮光层、有源层、栅极绝缘层、栅极层、第一电极层以及第二电极层。所述栅极绝缘层包括主体部、第一延伸部和第二延伸部。所述主体部对应于所述栅极层。所述第一延伸部和所述第二延伸部分别设于所述主体部的两侧。所述遮光层在所述栅极绝缘层上的正投影的一侧位于所述第一延伸部上。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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