[发明专利]一种半导体激光器制备方法有效

专利信息
申请号: 202110950473.8 申请日: 2021-08-18
公开(公告)号: CN113913743B 公开(公告)日: 2022-07-08
发明(设计)人: 李鸿建;郭娟 申请(专利权)人: 武汉云岭光电有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/14;C23C14/30;C23C14/34;H01S5/024
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 徐俊伟
地址: 430223 湖北省武汉市东湖新技*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明及光通信激光器技术领域,提供了一种半导体激光器制备方法,包括如下步骤:S1,制作具有沟槽的特殊陪条;S2,采用所述特殊陪条的沟槽遮挡激光器的前后腔面出光区域;S3,待遮挡完毕后对前后腔面采用电子束金属蒸发或溅射工艺,使得前后腔面的非出光区域镀金。本发明的一种半导体激光器制备方法,通过选择性镀金的方式,在激光器的前后腔面均镀金,可将腔面产生的热量传导掉,能有效减少由于腔面温度持续升高而导致的光学损伤,提高激光器的使用寿命和稳定性。
搜索关键词: 一种 半导体激光器 制备 方法
【主权项】:
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