[发明专利]一种基于应力阻尼调节的光刻工艺热点修正方法及系统

摘要

本发明公开了一种基于应力阻尼调节的光刻工艺热点修正方法及系统，其方法包括：获取掩模图案的标记热点；以标记热点为中心在掩模版上形成N个由内至外的环形带；将位于各环形带中的掩模图案的顶点沿偏离标记热点的方向移动特定距离，并将移动后的顶点按照原连接关系连接，得到更新布图；对更新布图进行电气特性的验证，判断更新布图的电气特性的偏差是否处于可容忍范围内，若否，则进行几何修正以补偿电参数的偏差后结束修正，若是，则结束修正。通过定位标记热点并将以标记热点为中心的布局区域划分为多个环形带，通过移动环形带内的掩模图案顶点来增大热点区域内掩模图案之间的间距，从而消除热点且不改变掩模图案整体的电学特性。