[发明专利]一种基于应力阻尼调节的光刻工艺热点修正方法及系统

权利要求书

1.一种基于应力阻尼调节的光刻工艺热点修正方法，其特征在于，包括：

步骤1：获取掩模图案的标记热点；

步骤2：形成以标记热点为中心的N个同心闭合图形，N个同心图形在掩模版上形成N个由内至外环数逐渐增加、环宽相等的环形带；

步骤3：将位于各环形带中的掩模图案的顶点沿偏离所述标记热点的方向移动特定距离，并将移动后的顶点按照原连接关系连接，得到更新布图，各顶点移动的距离随着所处环形带的环数的增加而减小且所述特定距离不超过版图电学设计可容忍偏差，其中，第k个环形带内的顶点移动的特定距离d_k＝(N-k)*ε,其中，ε为预先设定的移动步长，0≤kN；

步骤4：对更新布图进行电气特性的验证，判断更新布图的电气特性的偏差是否处于可容忍范围内，若否，则进行几何修正以补偿电参数的偏差后结束修正，若是，则结束修正。

2.如权利要求1所述的光刻工艺热点修正方法，其特征在于，所述闭合图形为圆形、矩形或正多边形中的一种。

3.如权利要求1所述的光刻工艺热点修正方法，其特征在于，所述将位于各环形带中的掩模图案的顶点沿偏离所述标记热点的方向移动特定距离，包括将每个顶点单独进行移动，或，将位于环形带内的包含顶点的线段整体移动。

4.如权利要求1所述的光刻工艺热点修正方法，其特征在于，所述闭合图形为圆形，所述环形带为圆环，所述顶点沿偏离所述标记热点的方向移动特定距离，包括：每个顶点沿从标记热点到顶点的方向移动特定距离。

5.如权利要求1所述的光刻工艺热点修正方法，其特征在于，所述闭合图形为矩形，所述环形带为矩形环，所述顶点沿偏离所述标记热点的方向移动特定距离，包括：每个顶点沿垂直于最近矩形边的方向移动特定距离。

6.如权利要求1所述的光刻工艺热点修正方法，其特征在于，当环形带内的掩模图案包含弧形线条时，将弧形线条分割成台阶形线段，以台阶形线段的顶点进行移动。

7.如权利要求1所述的光刻工艺热点修正方法，其特征在于，所述掩模图案包括多个间断的子图案，当标记热点位于任意子图案上时，选取除标记热点所处子图案的其他子图案上的顶点进行移动。

8.如权利要求1所述的光刻工艺热点修正方法，其特征在于，当在掩模版上获取多个热点时，每个热点对应一个热点区域，选取其中一个热点作为标记热点，确定所有热点的两两重叠区域，选取重叠区域之外的顶点进行移动。

9.一种基于应力阻尼调节的光刻工艺热点修正系统，其特征在于，包括：

热点获取单元，用于获取掩模图案的标记热点；

区域分割单元，用于形成以标记热点为中心的N个同心闭合图形，N个同心图形在掩模版上形成N个由内至外环数逐渐增加、环宽相等的环形带；

移动单元，用于将位于各环形带中的掩模图案的顶点沿偏离所述标记热点的方向移动特定距离，并将移动后的顶点按照原连接关系连接，得到更新布图，各顶点移动的距离随着所处环形带的环数的增加而减小且所述特定距离不超过版图电学设计可容忍偏差，第k个环形带内的顶点移动的特定距离d_k＝(N-k)*ε,其中，ε为预先设定的移动步长；

验证单元，用于对更新布图进行电气特性的验证，判断更新布图的电气特性的偏差是否处于可容忍范围内，若否，则进行几何修正以补偿电参数的偏差后结束修正，若是，则结束修正。