[发明专利]掩模及制造掩模的方法

摘要

提供了一种掩模及制造掩模的方法，所述掩模包括：掩模片，在平面图中设置有限定在其中的多个开口区域；以及掩模框架，支撑掩模片。掩模片包括：第一部分，包括第一表面，其中，第一表面被构造为与目标基底接触；以及第二部分，设置在第一部分上，在第一方向上从第一部分的顶部延伸并且包括限定多个开口区域的第二表面。第二表面是相对于第一方向向下倾斜的倾斜表面，并且第一方向平行于其中包括第一表面的平面。