[发明专利]一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺在审
| 申请号： | 202110843361.2 | 申请日： | 2021-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN113529014A | 公开（公告）日： | 2021-10-22 |
| 发明（设计）人： | 张耀辉;宗璐 | 申请（专利权）人： | 合肥联顿恪智能科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 泉州企记知识产权代理事务所(普通合伙) 35264 | 代理人： | 许寿宁 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺，本掩模版由聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体混合而成。使得掩膜版在保证足够磁性的前提下，做到重量最小，厚度最小，产生的弯曲形变最小，能够实现大尺寸掩膜版的制作，工艺简单，使用方便。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 解解 精细 金属 模版 及其 制作 工艺 | ||
【主权项】：
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