[发明专利]一种用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺

权利要求书

1.一种用于高解解析度的精细金属掩模版，其特征在于：该精细金属掩模版由聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体混合而成。

2.根据权利要求1所述的用于高解解析度的精细金属掩模版，其特征在于：还包括光引发剂。

3.一种用于高解解析度的精细金属掩模版的制作工艺，其特征在于，按以下步骤进行：

S1、将聚酰亚胺原液与具有磁性的粉体进行混合得到具有磁性的混合体；

S2、采用涂布工艺将混合体涂布成厚度均匀的薄膜；

S3、对薄膜进行加工使薄膜上形成图案；

S4、激光剥离形成需要的带有磁性的掩模版。

4.根据权利要求1所述的用于高解解析度的精细金属掩模版的制作工艺，其特征在于：步骤S2中，薄膜的厚度10um。

5.根据权利要求1所述的用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺，其特征在于：步骤S1中，在混合体内加入光引发剂。

6.根据权利要求5所述的用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺，其特征在于：步骤S3中，通过曝光显影工艺使薄膜上形成图案。

7.根据权利要求1所述的用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺，其特征在于：步骤S3中，对薄膜进行加工前应对薄膜进行烘干干燥。

8.根据权利要求7所述的用于高解解析度的精细金属掩模版及其制作工艺，其特征在于：步骤S3中，通过激光直写方式使薄膜上形成图案。