[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202110817894.3 申请日: 2021-07-20
公开(公告)号: CN114078838A 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 苏子昂;李明轩;吴杼桦;叶致锴;王智弘;谢文兴 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L21/8249;G01K7/01
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 任芸芸;郑特强
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开提供一种半导体装置,例如互补双极接面晶体管结构的实施例。根据本公开的半导体装置包含介电层以及设置在介电层上的鳍片状结构。鳍片状结构包含第一p型掺杂区、第二p型掺杂区以及第三p型掺杂区,以及第一n型掺杂区、第二n型掺杂区以及第三n型掺杂区,交错插在该第一p型掺杂区、第二p型掺杂区以及第三p型掺杂区之间。第一p型掺杂区、第三p型掺杂区以及第三n型掺杂区电性耦接至第一电位。第二p型掺杂区、第一n型掺杂区以及第二n型掺杂区电性耦接至与第一电位不同的第二电位。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
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