[发明专利]一种微器件集成结构的制造方法及其集成结构有效

专利信息
申请号: 202110808985.0 申请日: 2021-07-16
公开(公告)号: CN113539860B 公开(公告)日: 2023-01-13
发明(设计)人: 蔺光磊 申请(专利权)人: 芯知微(上海)电子科技有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/60;H01L23/488;H01L25/16
代理公司: 北京思创大成知识产权代理有限公司 11614 代理人: 张立君
地址: 201600 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种微器件集成结构的制造方法及其集成结构,包括步骤:提供基板,基板内形成有多个第一微器件,所述基板包括相对的第一面和第二面,所述基板的第一面形成多个第一导电块;所述介质层上还形成有多个裸露的第一焊垫,所述第一焊垫与所述互连结构电连接;提供第二微器件,所述第二微器件上形成多个裸露的第二焊垫;在所述第一焊垫上和/或所述第二焊垫上形成导电凸块;所述第一微器件和第二微器件粘接连接,所述第一焊垫和第二焊垫通过所述导电凸块电连接。本发明通过先在第一焊垫上和/或第二焊垫上形成导电凸块,然后通过导电凸块实现第一微器件和第二微器件的电连接,简化工艺,降低工艺难度,提高集成度,提高封装结构的导电性能。
搜索关键词: 一种 器件 集成 结构 制造 方法 及其
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