[发明专利]等离子处理装置的多头处理腔室的压力控制系统在审
| 申请号： | 202110805518.2 | 申请日： | 2021-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN114975054A | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 龙茂林;管长乐;李俊良 | 申请（专利权）人： | 北京屹唐半导体科技股份有限公司;玛特森技术公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京易光知识产权代理有限公司 11596 | 代理人： | 武晨燕 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 提供一种压力控制系统。该压力控制系统包括构件，该构件至少部分位于泵送端口内，该泵送端口流体耦合在多头处理腔室与泵之间，该泵被配置为从多头处理腔室中抽出气体。该构件可相对于泵送端口转动。该压力控制系统包括多个压力传感器。所述压力传感器中的每个压力传感器被配置为获得指示在多头处理腔室的对应头处进入多头处理腔室的气流的压力的数据。该压力控制系统包括致动器，该致动器被配置为转动所述构件以控制多头处理腔室的第一处理头处的气流的压力。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 多头 压力 控制系统 | ||
【主权项】：
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