[发明专利]具有防碰撞间隙结构的光掩模盒在审
| 申请号： | 202110800663.1 | 申请日： | 2021-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN114334751A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 邱铭乾;庄家和;李怡萱;温星闵;薛新民 | 申请（专利权）人： | 家登精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/673 | 分类号： | H01L21/673 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 刘金凤;臧微微 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有防碰撞间隙结构的光掩模盒，用以容置一光掩模。光掩模盒包含：一基座及多个支撑装置。支撑装置设于该基座上，支撑该光掩模，该光掩模的一底面的一外围区域与该基座的一朝上顶面之间形成一第一间隙，该基座的底面的一中央区域与该基座的朝上顶面之间形成一第二间隙，其中该中央区域受该外围区域围绕，该第二间隙大于第一间隙。本发明的光掩模盒，通过形成第一间隙和第二间隙，使该光掩模与该基座在互动的过程中光掩模被撞击或被刮伤的机率降低，以保护该光掩模，且第一间隙和第二间隙的配置，使该光掩模自该基座被拿起时不易引起严重的气流扰动使粒子附着于光掩模底面，以保护该光掩模图案区域不受到污染。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 碰撞 间隙 结构 光掩模盒 | ||
【主权项】：
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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