[发明专利]一种用于真空腔体的密封结构有效
| 申请号： | 202110795072.X | 申请日： | 2021-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN113531246B | 公开（公告）日： | 2022-11-04 |
| 发明（设计）人： | 胡常青;赵建海 | 申请（专利权）人： | 上海铂世光半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | F16L23/16 | 分类号： | F16L23/16;F16L23/22 |
| 代理公司： | 上海邦德专利代理事务所(普通合伙) 31312 | 代理人： | 史文军 |
| 地址： | 201707 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于真空腔体的密封结构，包括：第一上盖及与所述第一上盖通过真空法兰密封连接的第二下盖；所述真空法兰包括第一真空法兰以及与所述真空法兰密封连接的第二真空法兰，所述第二真空法兰靠近第一真空法兰的端面上至少开设有两个凹槽，所述凹槽中嵌合有密封件，所述第一真空法兰靠近第二真空法兰的端面为平滑面。根据本发明，提供双层密封结构的真空密封作用，同时能监控密封效果，并能及时发现真空密封失效而对软质密封圈进行及时更换，同时还能延长软质密封圈的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 空腔 密封 结构 | ||
【主权项】：
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