[发明专利]一种用于真空腔体的密封结构

说明书

本发明公开了一种用于真空腔体的密封结构，包括：第一上盖及与所述第一上盖通过真空法兰密封连接的第二下盖；所述真空法兰包括第一真空法兰以及与所述真空法兰密封连接的第二真空法兰，所述第二真空法兰靠近第一真空法兰的端面上至少开设有两个凹槽，所述凹槽中嵌合有密封件，所述第一真空法兰靠近第二真空法兰的端面为平滑面。根据本发明，提供双层密封结构的真空密封作用，同时能监控密封效果，并能及时发现真空密封失效而对软质密封圈进行及时更换，同时还能延长软质密封圈的使用寿命。

技术领域

本发明涉及真空密封的技术领域，特别涉及一种用于真空腔体的密封结构。

背景技术

由于对材料制备纯度的要求越来越高，因此很多材料及分析检测技术都是需要在真空的环境中进行，尤其是芯片制备，高性能半导体薄膜材料制备等领域，因此，真空设备是必不可少的。而对于真空设备，为了方便将材料从真空设备中拿进去，取出来，需要对拿取路径上设置方便使用，密封效果好，密封材料使用寿命长的密封结构。由于加工方便，通常真空设备都是用不锈钢制成。为了拿取材料的方便，真空腔在需要拿取材料进出的地方，需要通过真空法兰进行真空密封。

常规密封结构只有一层密封圈，该密封圈始终处于一边是常压，一边是真空；当橡胶密封圈两侧压强差越大，密封效果越容易被破坏，导致密封圈寿命降低；再加上橡胶容易老化，因此一层密封圈设计的密封结构，密封效果不理想，同时一旦橡胶圈老化，会导致密封失效。

发明内容

针对现有技术中存在的不足之处，本发明的目的是提供一种用于真空腔体的密封结构，提供双层密封结构的真空密封作用，同时能监控密封效果，并能及时发现真空密封失效而对软质密封圈进行及时更换，同时还能延长软质密封圈的使用寿命。为了实现根据本发明的上述目的和其他优点，提供了一种用于真空腔体的密封结构，包括：

第一上盖及与所述第一上盖通过真空法兰密封连接的第二下盖；

所述真空法兰包括第一真空法兰以及与所述真空法兰密封连接的第二真空法兰，所述第二真空法兰靠近第一真空法兰的端面上至少开设有两个凹槽，所述凹槽中嵌合有密封件，所述第一真空法兰靠近第二真空法兰的端面为平滑面。

优选的，所述凹槽与第二真空法兰为同心圆设置。

优选的，所述凹槽的深度尺寸为0.5-16.5毫米，宽度的尺寸为0.5-20毫米。

优选的，所述密封件软质材料，包括橡胶。

优选的，所述第二真空法兰上开设有一通孔，所述通孔通过金属管道连接有真空泵，所述金属管道上固接有第一真空规与第一阀门。

优选的，所述第一上盖与第二下盖均为真空腔结构，且所述第二下盖上通过管道连通有真空泵，所述管道上固接有第二阀门,与第二真空规。

本发明与现有技术相比，其有益效果是：通过双层密封件，以保证密封效果；通过在两层密封件中间区域设置抽真空管路及真空控制阀门和真空规用于真空测量，能有效的监控两层密封件的密封效果，及时发现真空密封失效的密封件；并通过控制两层密封件之间的真空度，可以有选择性的控制每一层密封件两边真空度的差异，从而能达到延长密封件的使用寿命。

附图说明

图1为根据本发明的用于真空腔体的密封结构的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。