[发明专利]一种用于真空腔体的密封结构

权利要求书

1.一种用于真空腔体的密封结构，其特征在于，包括：

第一上盖（1）及与所述第一上盖（1）通过真空法兰（2）密封连接的第二下盖（3）；

所述真空法兰（2）包括第一真空法兰（21）以及与所述真空法兰（2）密封连接的第二真空法兰（22），所述第二真空法兰（22）靠近第一真空法兰（21）的端面上开设有两个凹槽（221），所述凹槽（221）中嵌合有密封件（222），所述第一真空法兰（21）靠近第二真空法兰（22）的端面为平滑面；

所述凹槽（221）与第二真空法兰（22）为同心圆设置；

所述第二真空法兰（22）上开设有一通孔，所述通孔通过金属管道连接有真空泵（4），所述金属管道上固接有第一真空规（5）与第一阀门（6）；

所述第一上盖（1）与第二下盖（3）均为真空腔结构，且所述第二下盖（3）上通过管道连通有真空泵（4），所述管道上固接有第二阀门（7）与第二真空规（8），两层密封件（222）将真空腔结构分成三段区域：常压区域，常压区域为真空腔外，真空度为P0；两层真空密封件（222）之间区域为监控区域，监控区域的真空度为P1；真空区域，真空区域为真空腔内，真空度为P2；真空腔密封后，关闭第一阀门（6），通过真空泵（4）抽真空；此时P1=P0，说明密封件（222）是正常密封的；打开第一阀门（6），使P1=P2，然后关闭第一阀门（6），如果P1保持P2的状态，说明密封件（222）是正常的；

所述凹槽（221）的深度尺寸为0.5-16.5毫米，宽度的尺寸为0.5-20毫米；

所述密封件（222）为软质材料，包括橡胶。