[发明专利]曝光装置以及平面显示器制造方法有效
| 申请号： | 202110788294.9 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN113485076B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 白户章仁;涩谷敬 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/22;G03F7/00;G02F1/13;G01D5/347 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 董骁毅;叶明川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 曝光装置中，于基板保持具(34)上在X轴方向上多个格子区域(RG)彼此分离配置，对格子区域分别照射测量光束且能在Y轴方向移动的多个读头(66a～66d)配置于基板保持具外部。控制系统，根据多个读头中对向于格子区域的至少三个读头的测量信息与测量多个读头的位置信息的测量装置的测量信息，控制基板保持具在至少XY面内的3自由度方向的移动。多个读头，分别在基板保持具在X轴方向的移动中测量光束从多个格子区域中的一个格子区域脱离且移至相邻的另一格子区域。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 平面 显示器 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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